再制裁毒枭全变机枭了第178章 高精度我要低成本我也要

听到江晟问自己想选哪条路线臧教授有些苦恼： “既然决定换路线那作为阿斯麦技术延续的高数值孔径EUV首先排除。

还有X射线光刻因为掩膜材料容易被损伤加上高功率、稳定的X射线光源体积太大大到有足球场大也可以去掉。

原子层光刻因为技术难度太大十年都不一定能研发出来只能暂时搁置。

剩余的两条路线EBL电子束光刻和NIL纳米压印光刻都不错一时半会我也难以决定。

” “电子束和纳米压印吗？” 江晟想了想状似很随意地建议道“那就选纳米压印吧！” “为什么？” “我刚才好像听你说纳米压印设备的成本只有EUV的1/5甚至1/10而且制程步骤简单？” “是的。

” 臧教授点点头“如果能解决缺陷率和模板寿命问题这个路线是成本最低的。

” “那不就结了反正每一条路线都有难关需要攻克那我们为什么不选择一条成本最低的？只要将问题解决那光是成本优势就能让我们立于不败之地！” 所谓天下武功唯快不破在任何行业低成本优势都是绝对的大杀器。

东大的商品之所以能风靡全球将其他国家的同行打得节节败退在很大程度上就是靠便宜。

如果真能把光刻机的价格打到EUV的1/10甚至更低那芯片代工的价格是不是也要降？ 到时候所有拿不到莲蓬光刻机的芯片代工厂都会被能拿到的同行如中芯国际和莲芯半导体挤兑倒闭。

“可是……” 臧教授仍有些犹疑“论精度纳米压印是不如电子束的。

” “纳米压印的精度不是可以支持1nm吗？” “纳米压印支持1nm制程只是在理论上可以做到可电子束在理论上能达到原子级也就是0.1nm。

” 说到这里臧教授对江晟正色道： “虽然就目前来说1nm已经非常非常先进可能七八年之后都不一定能做到量产。

但它的潜力没有其他路线大一旦走到底就可能面临无路可走的窘境只能重新换方向。

到时候我们又将面临落后的局面！” 他的意思很明白拿玩游戏的话说就是纳米压印再好也只是前期极品而电子束是可成长性装备能一直用到后期。

闻言江晟笑了笑：“1nm制程只要成本够低我想即便阿斯麦或其他厂商研发出低于1nm的光刻机也有足够竞争力吧？ 而且只要我们研发速度足够快成本和售价足够低友商能不能撑到推出低于1nm的光刻机还不好说。

更重要的是我选纳米压印不等于就放弃其他路线。

如果在友商研发出低于1nm的光刻机时我们在原子层光刻技术也取得突破呢？” 臧教授一懵：“你想同时走两条路线？” “不错。

” 江晟点点头“既然原子层光刻是光刻技术的终极形态那我们没道理放弃。

高精度我要低成本我也要。

如果能把这两条路同时走通那不管低端还是高端市场都会被我们吃掉。

阿斯麦还有富士通等友商就算想转低端都不行！” “……” 臧教授看着江晟过了许久才有些无奈道： “江总你的想法很好但有没有想过我们的研发能力能支撑两条路线同时进行吗？ 先不说分散力量会不会影响研发进度因为三心两意导致竹篮打水一场空。

就说原子层光刻想要完成研发可能三十年也可能五十年甚至更久。

这会与纳米压印技术形成一个青黄不接的空当。

在这个空当内我们怎么办？” 听到这话江晟激将道：“你不是说研制光刻机不难吗？” “我说的是研制DUV不难不是说研制原子层光刻不难。

”臧教授辩解说。

江晟决定暂时搁置这一话题转而问道： “那你想选哪个？” “我……” 臧教授一张嘴刚要回答却心中一动道： “如果我选择EBL电子束光刻路线你会怎么做？” “那就再找一个团队研究原子层光刻。

” 江晟回答得十分坦然。

就像之前说的那样既然原子层光刻是光刻技术的终极形态那他就没道理不做布局。

对别人说动辄三十年、五十年甚至更长时间的研发周期令人望而生畏。

但对手握研发卡和灵感卡的他来说原子层光刻并不是那么的遥不可及。

即便道具卡用多了效果会递减甚至无效整个研发周期也会大大缩减。

最长十年最短可能只要两三年就能把它研制出来。

“唉！” 臧教授见他打定主意要同时走原子层光刻路线忍不住叹了口气道： 本小章还未完请点击下一页继续阅读后面精彩内容！。

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